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真空三千万彩票开奖wx678 com的物理过程 PVD(物理气相沉积技术)的基本原理可分为三个工艺步骤: (1) 镀料的气化:即镀料的蒸发、升华或被溅射从而形成气化源 (2) 镀料粒子((原子、分子或离子)的迁移:由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞,产生多种反应。 ...
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